
Название: Физико-химические методы обработки поверхности полупроводников
Автор: Луфт Б.Д. (ред.)
Издательство: Радио и связь
Год: 1982
Страниц: 134
Формат: DjVu
Размер: 20,4 МБ
Язык: Русский
Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений А3В5, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений.